2018年（第九屆）中國壓鑄、擠壓鑄造、半固態加工年會繼續圍繞“壓鑄、擠壓鑄造、半固態加工”為學術主題。本次年會，是繼2001年在山東煙臺、2003年在廣東深圳、2005年在浙江寧波、2007年在重慶、2009年在廣東深圳、2012年在蘇州、2014年在廣州、2016年在江蘇南通之后舉行的第九次中國壓鑄、擠壓鑄造、半固態加工學術年會，是一次高水平的學術交流和技術交流會議，也將是對近年來中國在壓鑄、擠壓鑄造和半固態加工等方面科技成果的一次大檢閱。
飛納電鏡期待與參會人員就掃描電鏡在壓鑄、擠壓鑄造、半固態加工的應用進行詳細討論。誠摯邀請參會人員蒞臨飛納電鏡展位參觀指導。
會議時間：2018 年 11 月 23 日 - 26 日
會議地點：廣東珠海德翰大酒店
會議主題
飛納臺式掃描電鏡在金屬領域的應用
一、金相樣品背散射成像分析
飛納電鏡背散射探頭成像可以顯示出材料的成分襯度，而背散射探頭屬于被動信號采集，對燈絲亮度有著*的要求。飛納電鏡采用高亮度 CeB6 燈絲或肖特基場發射電子源，使其背散射成像可以反映更多材料信息，同時也保證優異的二次電子形貌像。
圖1. 為金相樣品的背散射成像。沿著箭頭方向從內到外可以看到 4 種不同的成分襯度，且分界線非常明顯。代表這4個位置不同種類元素的含量各不相同，并且沿著箭頭方向，重元素占比越來越低。
二、污染、夾雜等缺陷能譜分析
壓鑄工件由于原材料、脫模劑、工藝控制等原因，往往存在污點、霉斑或夾渣等缺陷。在進行缺陷分析時，需要通過能譜測定成分種類，進而判定缺陷產生的原因，為工藝調整提供指導。
得益于良好的燈絲亮度、超薄氮化硅窗口和大面積能譜活性面積，飛納電鏡在能譜分析中有著出色表現。通過能譜面掃可以獲取材料元素的分布情況，如圖 2 所示。
三、失效工件的分析
在失效分析中，背散射成像與二次電子成像各有優勢：背散射成像可以看到不同的成分襯度，二次電子成像在刻畫表面形貌起伏時更具立體感，細節更豐富。結合兩種成像模式，可以更準確的反映出材料的結構特征、雜質種類和失效機理。
鑄件中析出物背散射電子圖像和二次電子圖像
斷口背散射電子圖像和二次電子圖像
四、飛納電鏡全景拼圖
飛納電鏡大樣品室版 Phenom XL，有較大的倉室空間，方便觀察大件樣品。同時配有全景拼圖功能，可以得到極大視野的掃描電鏡圖像，大小隨心，一覽無余。
五、、便捷、穩定
飛納電鏡全自動操作、15秒快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3年更換燈絲等特點，無需防震環境，可放置在任意樓層，能譜無外接部件，無需液氮冷卻。、便捷、穩定的優勢，幫助用戶在保證檢測質量的前提下，大幅提升工作效率。
目前，飛納電鏡已入駐多家高校、研究所和企業，助力金屬領域的研究與開發。
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